Semi-conducteurs - Implantation ionique et lithographie

Alimentations pour mémoires
Semiconductor: Ion Implantation and LithographyLa fabrication des mémoires, dont la capacité ne cesse d’augmenter, et des semi-conducteurs, dont la largeur de trait diminue, nécessite des sources de haute tension toujours plus contrôlées et toujours plus efficaces. Spellman conçoit des alimentations allant jusqu’à 400 kilovolts, destinées à fonctionner dans les conditions e formation d’arc rencontrées avec un grand nombre de processus sous vide, comme la gravure par faisceau d’ions, le dépôt en phase vapeur par faisceau électronique, et l’implantation d’ions. Nos alimentations sont également dotées des circuits de précision nécessaires pour produire le faible niveau d’ondulation et la forte stabilité requis avec la lithographie à faisceau électronique. Grâce à notre expérience et à nos produits de pointe, nous sommes devenus le fournisseur privilégié des industries qui ont besoin de solutions innovantes pour faire face aux difficultés engendrées par les nouvelles applications. Notre engagement : assister les industries de pointe qui ont besoin d’alimentations CC à haute tension.

(Photo avec l’aimable autorisation de Veeco Instruments, Inc.)